O'i gymharu â chwistrellu dau hylif traddodiadol, mae gan chwistrellu ultrasonic fanteision unffurfiaeth cotio uchel, defnyddio deunydd crai uchel, cywirdeb rheoli trwch cotio uchel, trwch cotio teneuach, llai o sblash, dim clogio nozzles, a chostau cynnal a chadw isel. O'i gymharu ag anweddiad gwactod, CVD a phrosesau cotio eraill, mae chwistrellu ultrasonic yn broses cotio ffilm denau fwy darbodus, yn enwedig ar gyfer paratoi ffilm ardal fwy. Mae cost offer chwistrellu ultrasonic yn llawer is na chost offer cotio gwactod. Gadewch inni gyflwyno'n fyr y prif fanteision hyn o chwistrellu ultrasonic.
Unffurfiaeth cotio uchel
Mae unffurfiaeth dosbarthiad gronynnau hylif ar ôl cael ei atomized gan y ffroenell ultrasonic yn sylweddol uwch nag un y ffroenell dau hylif, a elwir hefyd yn gwn chwistrell aer, fel bod unffurfiaeth y cotio ar ôl chwistrellu'r ffroenell ultrasonic hefyd yn gwella'n sylweddol. Yn gyffredinol, gall unffurfiaeth cotio chwistrell ultrasonic gyrraedd mwy na 95%.
2. Defnydd uchel o ddeunydd crai a llai o sblash
Oherwydd bod chwistrellu ultrasonic yn atomization hylif trwy ddirgryniad ultrasonic, nid yw'r cotio yn atomized yn ystod y broses atomization, hynny yw, nid oes angen pwysau ar y broses atomization, a dim ond gwasgedd nwy cludwr isel iawn sy'n cael ei gymhwyso ar ôl yr atomization i gludo'r niwl hylif. Mae'n lleihau'r bownsio hylif a'r sblash a achosir gan aer pwysedd uchel wedi'i chwistrellu gan ddau hylif, a thrwy hynny wella cyfradd defnyddio'r cotio yn fawr. Mae cyfradd defnyddio deunydd crai chwistrellu ultrasonic fwy na 4 gwaith cyfradd chwistrellu aer cyffredin, a gall y gyfradd defnyddio gyrraedd mwy na 90%.
3. Cywirdeb rheoli trwch cotio uchel
Y prif ffactor sy'n effeithio ar gywirdeb trwch cotio yw cyfradd llif chwistrellu'r cotio, hynny yw, faint o ddeunydd sy'n cael ei gario ar y swbstrad fesul amser uned. Nid oes gan y pen chwistrell ultrasonic unrhyw bwysau ar yr hylif, felly gall reoli llif hylif y gorchudd chwistrell atomedig yn llwyr gan bwmp mesuryddion manwl uchel, a thrwy hynny gyflawni rheolaeth llif chwistrellu manwl uchel. Fel pwmp chwistrell manwl uchel, gall ei gywirdeb rheoli llif gyrraedd lefel y picolitrau yr eiliad, a gall dyluniad micro-sianel y ffroenell ultrasonic hefyd gyflawni cywirdeb rheolaeth gyffredinol nanolitrau yr eiliad.
4. Gall trwch cotio tenau gyrraedd degau o nanometr
Oherwydd y gall cyfaint chwistrellu'r pen chwistrellu ultrasonic gyflawni cyfradd llif sefydlog isel iawn (0.001ml / min), gall gyflawni swm uwchlwytho bach iawn ar y swbstrad, a thrwy hynny gyflawni ffilm sych denau iawn. Ar gyfer rhai nanoddefnyddiau, gall trwch y ffilm sych fod mor isel â degau o nanometr. Gellir ei ddefnyddio i baratoi ffilmiau tenau gwydr fel ffilm dargludol dryloyw, ffilm gwrth-fyfyrio gwrth-fyfyrio, ffilm cysgodi gwres, a ffilm hydroffobig.
5. Dim clogio nozzles a chost cynnal a chadw isel
Oherwydd bod y ffroenell ultrasonic yn hylif wedi'i atomized gan osciliad ultrasonic, a bod y gronynnau atomized yn cael eu pennu gan amledd osciliad ultrasonic, mae'n wahanol i'r ffroenell dau-hylif. Nid oes angen i ddiamedr y ffroenell fod yn fach iawn i gyflawni gronynnau atomedig mân, felly mae'n lleihau'r risg o glocsio ffroenell.
